光刻是半导体加工中常见的一种技术，它是指利用光线和光敏材料进行微细结构制造的过程。通过将光线投射到光敏材料上，从而使光敏材料中的某些部分暴露在光线下，然后通过化学处理使暴露的部分被去除，从而在光敏材料上形成所需的微细结构。

辛地是一种化学溶剂，也常用于半导体加工中的光刻过程。在光刻的过程中，辛地被用作是去除光敏材料中被光照射过的部分的化学溶剂，在去除过程中，保留下来的部分则成为所需的微细结构，从而完成了光刻加工的过程。